1200 ℃ pré - chauffage coulissant double zone de température système PECVD

Application du produit:deux

Le système PECVD est l'ionisation à l'aide de radiofréquences d'un gaz contenant les atomes constitutifs du film mince, formant localement un plasma qui est chimiquement actif et qui réagit facilement pour déposer le film mince désiré sur le substrat.

Composition du produit:

Configuration du système PECVD:

Four tubulaire à vide à double zone de température ouverte de 1.1200 degrés

2. Le système de glissement est divisé en glissement manuel, électrique et configure le système de mesure de la température dans le tube.

3. Préchauffage ouvert four électrique tubulaire

4. Alimentation RF PLASMA

5. Système de contrôle de Débit massique multiplex

6. Système de vide (en option avec le vide moyen ou le vide élevé)

Caractéristiques du produit :

Basse température de croissance; Vitesse de dépôt rapide; La qualité de la formation de film est bonne, la portée d'application est large et l'équipement est simple.

Tianjin zhongcheng electric furnace Co., Ltd adresse: No.11, route de bichuan, Parc scientifique et technologique de Beichen, district de Beichen, Tianjin