Appareil de revêtement par Pulvérisation magnétron à trois cibles

NégociableMise à jour sur08/04

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Vue d'ensemble

Introduction simple: introduction du produit: CY - 600 - 3hd trois objectifs magnétron pulvérisation machine de revêtement est une machine de revêtement de Pulvérisation magnétron rentable développé par notre propre société, qui peut être utilisé pour la préparation de film ferroélectrique monocouche ou multicouche, film conducteur, film d'alliage, film semi - conducteur, film céramique, film diélectrique, film optique, film d'oxyde, film dur, film de polytétrafluoroéthylène, etc. Cet appareil de revêtement par Pulvérisation magnétron à trois cibles est comparé à des appareils similaires, il a non seulement une large application, mais aussi l'avantage d'uriner en volume pour le fonctionnement, c'est un appareil idéal pour la préparation de films de matériaux en laboratoire, en particulier pour la recherche en laboratoire sur les électrolytes solides et OLED, etc.

Détails du produit

Présentation détaillée:

Introduction au produit:CY- 600 - 3hd trois objectifs magnétron pulvérisateur est un coût élevé magnétron pulvérisateur machine de revêtement développé par Notre société, qui peut être utilisé pour la préparation d'un film ferroélectrique monocouche ou multicouche, film conducteur, film d'alliage, film semi - conducteur, film céramique, film diélectrique, film optique, film d'oxyde, film dur, film de polytétrafluoroéthylène, etc. Par rapport aux appareils similaires, il est non seulement largement utilisé, mais a l'avantage d'uriner en volume pour le fonctionnement, c'est un appareil idéal pour la préparation de films de matériaux en laboratoire, en particulier pour la recherche en laboratoire sur les électrolytes solides et OLED, etc.

Modèle de produit	Pulvérisateur magnétron à trois cibles（CY-600-3HD) et
Conditions d'installation	Cet équipement doit être utilisé à une altitude inférieure à 1000 m, à une température de 25 ℃ ± 15 ℃ et à une humidité de 55% RH ± 10% RH. 1, eau: l'équipement est équipé d'une machine à eau de refroidissement à circulation automatique (remplie d'eau purifiée ou désionisée) 2, Électricité: AC220V 50hz, doit avoir une bonne mise à la terre 3, gaz: l'intérieur de la Chambre de l'équipement doit être rempli d'argon (pureté de plus de 99,99%), besoin d'une bouteille d'argon autonome (avec son propre raccord à double carte Ø6mm) et d'une soupape de décompression 4, table de travail: taille 1500mm × 600mm × 700mm, portant plus de 200kg 5, dispositif de ventilation: requis
Caractéristiques principales	1, configurez trois pistolets cibles, une alimentation RF complémentaire pour le revêtement de pulvérisation de cibles non conductrices, deux Alimentations DC complémentaires pour le revêtement de pulvérisation de matériaux conducteurs (le pistolet cible peut être commuté arbitrairement selon les besoins du client). 2, une variété de films peuvent être préparés, avec une large gamme d'applications. 3, petite taille, opération facile. 4, conception modulaire de la machine entière, chambre à vide, Groupe de pompe à vide, conception divisée de puissance de contrôle, peut ajuster les besoins d'achat en fonction des besoins réels de l'utilisateur. 5, l'alimentation peut être sélectionnée en fonction des besoins réels de l'utilisateur, peut contrôler plusieurs pistolets cibles avec une seule source d'alimentation, peut également contrôler plusieurs pistolets cibles avec une seule source d'alimentation.
Paramètres techniques	1, tension d'alimentation: 220V 50hz 2, puissance totale: 2.5kw 3, degré de vide limite: <E- 6mbar (avec l'équipement de cette société peut atteindreE-5mbar） 4, température de fonctionnement: RT - 500 ℃, précision ± 1 ℃ (peut augmenter la température selon les besoins réels) 5, nombre de pistolets cibles: 3 6, méthode de refroidissement du pistolet cible: refroidissement par eau 7, taille de la cible: Ø 2 ", épaisseur 0.1mm-5mm (varie en raison de l'épaisseur différente du matériau de la cible) 8, puissance de pulvérisation DC: 500W (facultatif) 9, puissance de pulvérisation RF: 300W / 500W (facultatif) 10, porte - échantillon: Ø 140mm 11, vitesse de la plate - forme porteuse: réglable dans 1rpm - 20rpm 12, gaz de protection: AR, N2 et autres gaz inertes 13, voie d'admission d'air: le débitmètre massique contrôle 2 voies d'admission d'air, chaque débit est 100sccm
Spécifications du produit	Taille de la machine principale: 500mm × 560mm × 660mm, taille de la machine entière: 1300mm × 660mm × 1200mm; poids: 160kg
Accessoires standard	1	Système de contrôle d'alimentation DC	2 ensembles
	2	Système de contrôle d'alimentation RF	1 ensemble
	3	Système de moniteur d'épaisseur de membrane	1 ensemble
	4	600Pompes moléculairesGroupe	1 unité
	5	Refroidissement par eau de qualité industrielleMachine	1 unité
	6	Tuyau d'eau de refroidissement (Ø6mm)	4 racines
Accessoires optionnels	Diverses cibles telles que l'or, l'indium, l'argent, l'or blanc

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